Nunoya Y., Ando T., Okuno K., Ono M., Hasegawa T., Ohtani N., Isono T.(isonot@naka.jaeri.go.jp), Ozaki A., Koizumi T.
Togano K., Sato J., Wada H., Itoh K., Kitaguchi H., Kumakura H., Morita H.(hmorita@hri.hitachi.co.jp), Okada M., Tanaka K., Ohata K.
Gouge M.J., Lee D.F., Duckworth R.C., Lue J.W.(luejw@ornl.gov), Grabovickic R.(rgrabovi@powerlink.qld.gov.au)
Muroga T., Izumi T., Shiohara Y., Yamada Y.(yyamada@istec.or.jp), Iwai H.
Nagaya S., Kashima N., Saitoh T., Onabe K.(onabe@rd.fujikura.co.jp), Doi T.
Iijima Y., Saitoh T., Teranishi R., Fuji H., Shibata J., Asada S., Izumi T., Shiohara Y., Honjo T., Tokunaga Y.(tokunaga@istec.or.jp)
Schoop U., Thieme C., Li X., Zhang W., Kodenkandath T., Nguyen N., Siegal E., Buczek D., Lynch J., Scudiere J., Rupich M., Harley E., Masur L.J.(LMasur@amsuper.com), Verebelyi D., Kellers J.
Iijima Y., Awaji S., Watanabe K., Takeo M., Saitoh T., Shiohara Y., Kiss T.(kiss@sc.kyushu-u.ac.jp), Inoue M., Kuga T., Ishimaru M., Egashira S., Irie S., Ohta T., Imamura K., Yasunaga M., Matsushita T., Kakimoto K.
Kuriyama T., Nomura S., Funaki K., Hayashi H., Tsutsumi K., Tasaki K.(kenji2.tasaki@toshiba.co.jp), Sumiyoshi Y., Kimura H., Iwakuma M.
Ключевые слова: HTS, YBCO, coated conductors, IBAD process, PLD process, current-voltage characteristics, n-value, fabrication, critical caracteristics, length
Koritala R.E., Fisher B.L., Markowitz A.R., Erck R.A., Dorris S.E., Miller D.J., Balachandran U., Meiya L., Beihai M.(bma@anl.gov)
Akimov I.I., Sytnikov V.E., Dolgosheev P.I., Polyakova N.V., Svalov G.G., Boev A.I., Ivanov A.N., Keilin V.E., Kovalev I.A., Lelekhov S.A., Novikov S.I., Novikov M.S., Shcherbakov V.I.
© Copyright 2006-2012. Использование материалов сайта возможно только с обязательной ссылкой на сайт.
Свои замечания и пожелания вы можете направлять по адресу perst@isssph.kiae.ru
Техническая поддержка Alexey, дизайн Teodor.